ASML的光刻机和氢弹哪一个更难研制2.技术上，顶级光刻机太“精细”了，相比较而言，氢弹要“大黑粗”一些。有一个事情令偶印象很深，大家曾接待过尼康的技术总师，听过他讲解尼康技术的发展史，大家无不为日本人的严谨和研究深度所折服。事后大家常说怪不得日本人搞光刻机搞得这么好，怕是跟严谨的民族风气有关。尼康公司尚且如此，asml自不必说。
3.投入产出上，顶级光刻机投入大、见效慢、效果存疑，相比较而言，氢弹很“立竿见影”。氢弹的投入产出比大家都比较了解，前面很多回答也都提及了。但是顶级光刻机则不然，投入太大太宽泛，需要各交叉学科和各应用工程领域的大量投入，研发周期太长（大家距世界顶级水平的差距太大），结果学界还都在怀疑传统光刻机已经发展到头了，再追加投入不如另辟蹊径弯道超车。事实上，偶也感觉国家对光刻机研发的支持力度确实不太大。
4.补充：评论中很多人纠结弯道超车是否正确的问题，偶表达偶的意见：就光刻机来讲，某种程度上偶同意国家支持力度不大，期待弯道超车的思路。
因为目前看来传统光刻机快发展到头了，大家都知道芯片业的摩尔定律（芯片性能每年翻倍）已维持不住了，维持不住的重要原因就是光刻机发展的停滞，光刻机发展停滞的根源则是基础物理发展的停滞。至于未来该怎么办，大家也很迷茫啊。所以用不大不小的投入，维持着大家的光刻机不要掉队，期待未来新的技术突破，或许这就是一条性价比最高的路。